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碳化硅外延層厚度的測試 紅外反射法

標 準 號: GB/T 42905-2023
替代情況:
發(fā)布單位: 國家市場監(jiān)督管理總局 國家標準化管理委員會
起草單位: 安徽長飛先進半導體有限公司、安徽芯樂半導體有限公司、河北普興電子科技股份有限公司 等
發(fā)布日期: 2023-08-06
實施日期: 2024-03-01
點 擊 數(shù):
更新日期: 2023年09月11日
內容摘要

本文件描述了采用紅外反射法測試碳化硅外延層厚度的方法。
本文件適用于n型摻雜濃度大于1×1018 ?cm-3的碳化硅襯底上同質摻雜濃度小于1×1016 cm-3的同質碳化硅外延層厚度的測試,測試范圍為3 μm~200 μm。

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