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冶金
>>正文
硅晶體中間隙氧含量徑向變化測量方法
標(biāo) 準(zhǔn) 號:
GB/T 14144-2009
替代情況:
替代 GB/T 14144-1993
發(fā)布單位:
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位:
峨嵋半導(dǎo)體材料廠
發(fā)布日期:
2009-10-30
實(shí)施日期:
2010-06-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期:
2020年02月01日
內(nèi)容摘要
本標(biāo)準(zhǔn)適用于室溫電阻率大于0.1Ω·cm 的n型硅單晶和室溫電阻率大于0.5Ω·cm 的p型硅單晶中間隙氧含量的測量。
?
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安全標(biāo)準(zhǔn)
.
硅晶體
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