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無(wú)損檢測(cè) 工業(yè)X射線系統(tǒng)焦點(diǎn)特性 第4部分:邊緣方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 25758.4-2010
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 上海泰司檢測(cè)科技有限公司、上海英華無(wú)損檢測(cè)技術(shù)有限公司、上海材料研究所等
發(fā)布日期: 2010-12-23
實(shí)施日期: 2011-10-01
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更新日期: 2012年07月06日
內(nèi)容摘要

      GB/T25758的本部分規(guī)定了采用清晰邊緣的射線照相底片,來(lái)校驗(yàn)管電壓最高至500kV 的工業(yè)X 射線系統(tǒng)的大于0.5mm 焦點(diǎn)尺寸的方法。 
      X 射線圖像的像質(zhì)和分辨力很大程度上取決于焦點(diǎn)的特性。焦點(diǎn)成像質(zhì)量基于目標(biāo)平面的二維強(qiáng)度分布。 
      邊緣方法對(duì)于在現(xiàn)場(chǎng)條件下校驗(yàn)焦點(diǎn)是特別有效,以發(fā)現(xiàn)焦點(diǎn)的變化。本方法不能用于焦點(diǎn)尺寸的絕對(duì)測(cè)量。焦點(diǎn)尺寸的絕對(duì)測(cè)量方法見附錄A。

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