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直流濺射沉積納米晶氧化鎳薄膜及電化學(xué)性能

文檔作者: 蔡羽等        文檔來源: 河南科技大學(xué)
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更新時間: 2015年11月30日
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采用直流濺射并結(jié)合熱處理丁藝制備氧化鎳薄膜,利用x射線衍射儀(XRD)、掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDX)考察退火溫度對薄膜結(jié)構(gòu)、形貌和組成的影響,并通過恒流充放電技術(shù)初步考察薄膜的電化學(xué)性能。結(jié)果表明,在400~500 oC退火溫度下制備了表面光滑、結(jié)構(gòu)致密的NiO薄膜;隨著退火溫度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐漸增大,晶形趨于完整;其中,500 oC下退火2 h獲得的NiO薄膜具有良好的電化學(xué)循環(huán)穩(wěn)定性,有望成為高性能的全同態(tài)薄膜鋰電池陽極材料。
 

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