1．遵守“先降溫后降量”的原則。

　　加氫裝置正常操作調(diào)整時必須遵守“先降溫后降量”、“先提量后提溫”的原則，防止“飛溫”事故的發(fā)生。

　　2．反應溫度的控制

　　加氫裝置的反應溫度是最重要的控制參數(shù)，必須嚴格按工藝技術指標控制加氫反應溫度及各床層溫升。

　　3．高壓分離器液位控制

　　高壓分離器液位是加氫裝置非常重要的工藝控制參數(shù)，如液位過高易循環(huán)氫帶液，損壞循環(huán)氫壓縮機；如液位過低易出現(xiàn)高壓竄低壓事故，造成低壓部分設備毀壞，油品和可燃氣體泄漏，以至更為嚴重的后果。因此應嚴格控制高壓分離器液位，經(jīng)常校驗液位儀表的準確性。

　　4．反應系統(tǒng)壓力控制

　　加氫裝置反應系統(tǒng)壓力是重要的工藝控制參數(shù)，反應壓力影響氫分壓，對加氫反應有直接的影響，影響加氫裝置反應系統(tǒng)壓力的因素很多，應選擇經(jīng)濟、合理、方便的控制方案對反應系統(tǒng)的壓力進行控制。

　　5．循環(huán)氫純度的控制

　　循環(huán)氫純度影響氫分壓，對加氫反應有直接的影響，是加氫裝置重要的工藝控制參數(shù)，影響循環(huán)氫純度的因素很多，催化劑的性質(zhì)、原料油的性質(zhì)、反應溫度、壓力、新氫純度、尾氫排放量等因素都影響循環(huán)氫純度，其中可操作條件為尾氫排放量。加大尾氫排放，循環(huán)氫純度增加；減小尾氫排放循環(huán)氫純度降低。

　　循環(huán)氫純度高，氫分壓就會較高，有利于加氫反應進行，但是，高循環(huán)氫純度是以大量排放尾氫、增加物耗為代價的；循環(huán)氫純度低，氫分壓就會較低，不利于加氫反應進行，而且，循環(huán)氫純度低時，循環(huán)氫平均分子量大，在循環(huán)氫壓縮機轉(zhuǎn)速不變的情況下，系統(tǒng)壓差就會增加，循環(huán)氫壓縮機的動力消耗也會增加。因此，循環(huán)氫純度要控制適當。

　　6。力口熱爐的控制

　　加熱爐是加氫裝置的重要設備，加熱爐的使用應引起重視。加熱爐各路流量應保持均勻，并且不低于規(guī)定的值，防止爐管結(jié)焦；保持加熱爐各火嘴燃燒均勻，盡量使爐堂內(nèi)各點溫度均勻；控制加熱爐各點溫度不超溫；保持加熱爐燃燒狀態(tài)良好。

　　7．閉燈檢查

　　加氫裝置系統(tǒng)壓力高，而且介質(zhì)為氫氣，容易發(fā)生泄漏，高壓氫氣發(fā)生泄漏時容易著火，氫氣火焰一般為淡藍色，白天不易發(fā)現(xiàn)，在夜間閉上燈后，很容易發(fā)現(xiàn)這種氫氣漏點。因此，定期進行這種夜間閉燈檢查，對發(fā)現(xiàn)漏點，將事故消滅在萌芽狀態(tài)，保證裝置安全穩(wěn)定運行具有重要意義。