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建立和控制原子發(fā)射光譜化學(xué)分析曲線規(guī)則

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): YB/T 4144-2019
替代情況: 替代 YB/T 4144-2006
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部
起草單位: 冶金工業(yè)信息標(biāo)準(zhǔn)研究院 等
發(fā)布日期: 2019-08-27
實(shí)施日期: 2020-01-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2022年04月08日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了建立和控制原子發(fā)射光譜化學(xué)分析曲線的規(guī)則。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于火花原子發(fā)射光譜,不適用于X-射線發(fā)射光譜。盡管分析曲線的產(chǎn)生和日??刂七\(yùn)行關(guān)聯(lián),但是仍被看作是相互獨(dú)立的。因?yàn)橛?jì)算機(jī)程序運(yùn)行生成分析曲線的多元線性回歸是現(xiàn)成的,本標(biāo)準(zhǔn)不再詳盡描述該過(guò)程,但是,還是 給出了關(guān)于生成方程評(píng)估的一些推薦性規(guī)范。

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