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X射線熒光光譜法測(cè)定氫氧化鋁中SiO2、Fe2O3、Na2O含量

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): YS/T 702-2009
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部
起草單位: 中國(guó)鋁業(yè)股份有限公司廣西分公司
發(fā)布日期: 2009-12-04
實(shí)施日期: 2010-06-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2017年03月03日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了規(guī)定了X射線熒光光譜法測(cè)定氫氧化鋁中SiO2、Fe2O3、Na2O含量的分析原理、儀器設(shè)備、分析步驟及分析重復(fù)性、精密性等。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于氫氧化鋁中SiO2、Fe2O3、Na2O含量的測(cè)定。測(cè)定范圍:SiO2:0.005%~0.08%,F(xiàn)e2O3:0.004%~0.07%;Na2O:0.20%~0.80%。
 

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