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高純鋁化學(xué)分析方法 痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定 輝光放電質(zhì)譜法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): YS/T 871-2013
替代情況: 替代 YS/T 71-2004
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部
起草單位: 北京有色金屬研究總院、新疆眾和股份有限公司、金川新材料科技股份有限公司、山東兗礦輕合金有限公司
發(fā)布日期: 2013-04-25
實(shí)施日期: 2013-09-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2017年03月03日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用高質(zhì)量分辨率輝光放電質(zhì)譜法測(cè)定高純鋁中痕量元素的測(cè)試方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于高純鋁中痕量元素含量的測(cè)定。各元素測(cè)定范圍為5.0×10-7%~1.0×10-3%(w%)。

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