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掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)通用技術(shù)條件

標(biāo) 準(zhǔn) 號： SJ/T 11079-1996
替代情況： 替代 GB 11481-89
發(fā)布單位： 電子工業(yè)部
起草單位： 電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所 等
發(fā)布日期： 1996-11-20
實(shí)施日期：
點(diǎn) 擊 數(shù)：
更新日期： 2024年08月18日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)的術(shù)語、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則等，還對供貨作了規(guī)定。


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