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聲表面波器件光刻工藝技術(shù)要求

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): SJ 21497-2018
替代情況:
發(fā)布單位: 國家國防科技工業(yè)局
起草單位: 中國電子科技集團(tuán)公司
發(fā)布日期: 2018-01-18
實(shí)施日期: 2018-05-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2022年09月18日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了聲表面波器件光刻工藝的人員、環(huán)境、安全、材料、設(shè)備和儀器等一般要求,以及聲表面波器件光刻工藝的典型工藝流程、各工序技術(shù)、檢驗(yàn)等詳細(xì)要求。


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