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γ射線工業(yè)CT放射衛(wèi)生防護標準

標 準 號: GBZ 175-2006
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國衛(wèi)生部
起草單位: 重慶市衛(wèi)生局衛(wèi)生監(jiān)督所、重慶大學(xué)ICT研究中心
發(fā)布日期: 2006-11-03
實施日期: 2007-04-01
點 擊 數(shù):
更新日期: 2010年08月11日
內(nèi)容摘要

本標準規(guī)定了γ射線工業(yè)CT設(shè)備的防護性能、檢測室防護設(shè)施以及γ射線工業(yè)CT設(shè)備在使用和維護過程 的放射衛(wèi)生防護要求。
本標準適用于密封源活度大于或等于4×Bq的γ射線工業(yè)CT設(shè)備及其掃描檢測實踐;密封源活度低于4×Bq的γ射線工業(yè)CT設(shè)備及其掃描檢測實踐可參照此標準執(zhí)行。

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