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表面化學分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

標 準 號: GB/T 41064-2021
替代情況:
發(fā)布單位: 國家市場監(jiān)督管理總局 國家標準化管理委員會
起草單位: 清華大學、中國石油大學(北京)
發(fā)布日期: 2021-12-31
實施日期: 2022-07-01
點 擊 數(shù):
更新日期: 2022年05月05日
內(nèi)容摘要

本文件規(guī)定了一種通過測定濺射速率校準材料濺射深度的方法,即在一定濺射條件下測定一種具有單層或多層膜參考物質(zhì)的濺射速率,用作相同材料膜層的深度校準。當使用俄歇電子能譜(AES)、?X射?線光電子能譜(XPS)和二次離子質(zhì)譜(SIMS)進行深度分析時,這種方法對于厚度在20 nm~200 nm之間的膜層具有5%~10%的準確度。濺射速率是由參考物質(zhì)相關界面間的膜層厚度和濺射時間決定。使用已知的濺射速率并結合濺射時間,可以得到被測樣品的膜層厚度。測得的離子濺射速率可用于預測各種其他材料的離子濺射速率,從而可以通過濺射產(chǎn)額和原子密度的表值估算出這些材料的深度尺度和濺射時間。

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