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表面化學(xué)分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析時(shí)離子束對(duì)準(zhǔn)方法及其束流或束流密度測(cè)量方法

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 34326-2017
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院
發(fā)布日期: 2017-09-29
實(shí)施日期: 2018-08-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2018年05月31日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了在俄歇電子能譜(AES)和X射線光電子能譜(XPS)中使用惰性氣體離子以保證濺射深度剖析具有好的深度分辨率以及最佳表面清潔效果而采取的離子束對(duì)準(zhǔn)方法。這些方法分為兩類:一類通過法拉第杯測(cè)量離子束流,另一類通過成像方法。法拉第杯方法也規(guī)定了離子束束流密度和束流分布的測(cè)量。這些方法不包括深度分辨率的優(yōu)化。
這些方法均適用于束斑直徑小于1 mm的離子槍。

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