對表面分析用的工作參考物質（WoRM)中離子注入原子序數(shù)大于硅的分析物元素，本標準規(guī)定了對其駐留面劑量進行定值的程序。WoRM為組成均勻的、標稱直徑不小于50 mm的拋光（或類似磨面)基片（也稱作基片)，并已離子注入一種基片上不存在的某種化學元素的同位素（也稱作分析物)，其標稱面劑量范圍通常為1016 atoms/cm2至1013 atoms/cm2（即半導體技術中最感興趣的范圍)。WoRM晶片中離子注入分析物的面劑量，是通過與二級參考物質（SeRM)硅片中注入相同分析物的駐留面劑量比較而進行定值的。本標準提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同時也有對參考物質要求、比較測量和實際定值的描述。離子注入、離子注入劑量術、波長色散X射線熒光光譜和無法得到SeRM時的無證替代物的補充材料見附錄A到附錄D。定值過程中產生的不確定度來源和數(shù)值見附錄E。