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電子工業(yè)用氣體 四氟化硅

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào): GB/T 31058-2014
替代情況:
發(fā)布單位: 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
起草單位: 核工業(yè)理化工程研究院華核新技術(shù)開發(fā)公司、佛山市華特氣體有限公司、綠菱電子材料(天津)有限公司等
發(fā)布日期: 2014-12-22
實(shí)施日期: 2015-07-01
點(diǎn) 擊 數(shù):
更新日期: 2015年10月27日
內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了四氟化硅的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存等內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于螢石硫酸法、六氟硅酸鹽熱分解法、單質(zhì)硅直接氟化法制備的四氟化硅。它主要用作電子工業(yè)中等離子蝕刻、發(fā)光二極管 P形摻雜、離子注入工藝、外延沉積擴(kuò)散的硅源和光導(dǎo)纖維用高純石英玻璃的原料,也是生產(chǎn)多晶硅的重要原料。
分子式:SiF4。
相對(duì)分子質(zhì)量:104.0786128(按2009年國(guó)際原子相對(duì)質(zhì)量)。

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